nb_NO Norsk bokmål

Hva er kjemisk gullbelegg og hvordan fungerer det?

Lær om kjemisk gullbelegg for smykker. Det bruker spesielle løsninger for å legge et tynt lag med gull på gjenstander. Noen metoder trenger cyanid, andre ikke. Prosessen kan være langsom og vanskelig, men den får smykker til å se flotte ut. Perfekt for smykkemakere og -selgere som ønsker å legge til et snev av gull.

Hva er kjemisk gullbelegg og hvordan fungerer det?

Kjemisk gullbelegg: Teknikker, løsninger og bruksområder for smykker

Innledning:

Hva er kjemisk gullbelegg? Det er en prosess som brukes til å avsette et tynt lag med gull på ulike materialer, noe som forbedrer utseendet og holdbarheten deres. Hvordan fungerer det? Kjemisk gullbelegg innebærer bruk av spesielle løsninger med gullioner og reduksjonsmidler. Tradisjonelle metoder bruker ofte cyanid, men det finnes også cyanidfrie alternativer. Hvorfor velge kjemisk gullbelegg? Det gir en jevn, høykvalitets finish som er ideell for smykker og andre dekorative gjenstander. Enten du er smykkemaker, designer eller forhandler, kan det å forstå disse teknikkene forbedre produktene dine.

Hva er kjemisk gullbelegg og hvordan fungerer det
Hva er kjemisk gullbelegg og hvordan fungerer det?

Innholdsfortegnelse

Seksjon I Kjemisk gullbelegging med cyanid

1. Oversikt

Med den høye tettheten av elektroniske komponenter, kompleksiteten i linjedesign, mikrofabrikasjon av kretser og uavhengigheten av elektriske egenskaper, har kjemisk gullbelegging, som løser kompleksiteten i platingprosessen, blitt en uunngåelig måte å gullbelegge på. Kjemisk gullbelegging har imidlertid følgende ulemper:

① Lav hastighet;

② Smal bruksforhold og driftsområde, noe som øker vanskeligheten med administrasjon;

③ Materialoverflaten må være grundig ren;

④ Levetiden til platingløsningen er kort (utsatt for selvredoksreaksjoner);

⑤ Plateringstykkelsen er svært følsom for omrøringsforhold.

Derfor må kjemisk gullplettering utføres med spesialutstyr. Den vanlige sammensetningen av kjemisk gullpletteringsløsning er vist i tabell 1-24, fremstilt ved å kombinere forskjellige gullkoordinasjonssalter og reduksjonsmidler.

Tabell 1-24 Typer gullkoordinasjonssalt og reduksjonsmidler i kjemisk gullpletteringsløsning
Reduksjonsmiddel KAu(CN)2 KAu(CN)4 Na3Au(SO2)2 HAuCl4 • 3H2O HAuCl4 ・ 3 timer2O AuCN KAu(CN)4 KAu ・ O2 KAu(OH)4 AuI Ikke spesifikk
Natriumhypofosfitt 57,58 71 77
Formaldehyd 71 78
Biazid 59 71 76 78
Borhydrid 60,61 72 78 79
Metylboran 60 69 74 75 79 80
Hydroksylamin 62
Upublisert 63 73 81
Tiourea 64
Ammoniumhydroksid 65
Kaliumnatriumtartrattetrahydrat (kombinert) 66 70
N,N-dimetylamid 82
N,N-dimetylglycin 67
Ingen 68
De ulike komponentene i den kjemiske gullpletteringsløsningen og pletteringsprosessen er vist i tabell 1-25. Nedenfor introduseres reduksjonsmidlene hypofosfitt og borhydrid i to praktiske pletteringsløsninger.
Tabell 1-25 Funksjoner til komponenter i kjemisk gullpletteringsløsning
Komponent Hensikt Forbindelsesnavn
Gullion Tilførsel av metallisk gull KAu(CN)2KAu(CN)4、AUCN、Na3Au(SO2)2. HAuCl4 • 3H2O, KAu ・ O2
Reduksjonsmiddel Reduksjonsmidler for gullavsetning Kaliumnatriumtartrat-tetrahydrat, borhydrid, aminboran, formaldehyd, hypofosfitt, N,N-dimetylglysin, askorbinsyre
Organiske chelateringsmidler Buffervirkning for å forhindre rask gullavsetning EDTA, kaliumsitrat, vinsyre
Stabilisator Masker aktive kjerner for å forhindre nedbrytning av platingløsningen Tiourea, metallcyanid, acetylaceton
Aktivator Den bremsende effekten av det modererende chelateringsmiddelet Ravsyre
Buffermiddel Oppretthold en viss pH-verdi Fosfater, sitrater, tartrater
Surfaktant Gjør de belagte delene enkle å fukte Alifatiske sulfonater, alkoholsulfater

2. Hypoposfittgullbeleggløsning

Når basismetallet og gullet i platingløsningen gjennomgår en fortrengningsreaksjon, ioniserer metallet med et lavere elektrokjemisk potensial lettere enn gull. Under reaksjonen, når overflaten av basismetallet er fullstendig dekket av gull, stopper reaksjonen umiddelbart, slik at bare 0,1~0,3 μm tynt gullpletteringslag kan oppnås. Denne platingløsningen, eller Brookshires løsning, er en gammel platingløsning og er den grunnleggende sammensetningen av nåværende markedsførte kjemiske gullpletteringsløsninger. Kjennetegn på platingløsningen: basislaget for gullplettering må være nikkel for fortrengningsreaksjonen; gull kan ikke fortrengningspletteres på kobbermateriale.

   

(1) Sammensetning og betingelser for hypofosfitt kjemisk gullbeleggløsning

Tabell 1-26 viser den typiske sammensetningen av hypofosfitt kjemisk gullbeleggløsning.

Tabell 1-26 Sammensetning og betingelser for hypofosfitt kjemisk gullpletteringsløsning
Sammensetning og driftsforhold Serienummer
1 2 3 4 5
Kaliumgullcyanid/(g/L) 2 2 20 2 2
Natriumhypofosfitt/(g/L) 10 10 10 10 10
Kaliumcyanid /(g/L) 0.2 0.2 80 0.4 0.2
Temperatur/°C 96 96 96 96 96
pH 13.5 7.5 13.5 13.5 7.1
Belastningshastighet/(cm2/cm3) 0.25 0.25 0.25 0.25 0.25
Platinghastighet/[mg/(cm²2· h)] 9.8 9.85 12.3 8.2 3.86
① Kaliumcyanid erstattes av natriumcyanid.

   

(2) Effekten av nikkel på avsetningshastigheten til hypofosfittbeleggløsning 

I den kjemiske gullbeleggløsningen med hypofosfitt som reduksjonsmiddel, aktive metallioner (Ni2+) tilsettes. Metall (nikkel) og gull avsettes i spormengder på overflaten av de belagte delene, noe som skaper en stor kjemisk drivkraft og øker gullbelegningshastigheten. Prinsippet er vist i modelldiagrammet i figur 1-25.

Figur 1-25 Prinsippmodelldiagram av effekten av nikkel på gullavsetning
Figur 1-25 Prinsippmodelldiagram av effekten av nikkel på gullavsetning
Eksperimentene ble utført med platingløsningen fra tabell 1-27. Testprøven var 20 mm × 25 mm × 0,1 mm. Gullkonsentrasjonen i to typer platingløsninger er 2 g/L, 5 g/L, 7 g/L, temperatur på 70 ℃ og tid er 10 min, 30 min, 50 min, 60 min. Forbehandling før plating inkluderte nedsenkingsavfetting i 2 min, elektrokjemisk avfetting i 1 min, aktivering og saltsyrebehandling (1+1) i 1 min før gullplettering. Resultatene er vist i figur 1-26.
Tabell 1-27 Sammensetning og driftsforhold for hypofosfittgullbeleggløsning
Sammensetning og driftsforhold I II Sammensetning og driftsforhold I II
Kaliumgullcyanid/(g/L) 2, 5, 7 2, 5, 7 Kaliumcyanid /(g/L) - 2
Natriumsitrat/(g/L) 75 75 H2NNH2 · H2O /(g/L) - 2
Natriumhypofosfitt/(g/L) 15 15 pH 8.5 4.3
EDTA-2Na/(g/L) - - Temperatur/℃ 70, 90 70, 90
Natriumklorid/(g/L) - 5
Figur 1-26 Resultater av ulike galvaniseringsløsninger
Figur 1-26 Resultater av ulike galvaniseringsløsninger

3. Borhydridsaltpletteringsløsning

(1) Sammensetning og egenskaper ved kjemisk gullbeleggingsløsning med kaliumborhydrid

 I 1969 foreslo Okinaka et al. å bruke en platingløsning med borhydridforbindelser som reduksjonsmiddel. Sammensetningen og betingelsene til den kjemiske gullpletteringsløsningen med borhydrid er vist i tabell 1-28, og egenskapene til gulllagene som er plettert med disse løsningene er vist i tabell 1-29. Tykkelsen på platingslagene som er plettert på forskjellige tidspunkter med forskjellige platingløsninger er angitt i figur 1-27. Sammendragsresultatene for reduksjonsmidlene kaliumborhydrid og dimetylaminboran er vist i tabell 1-30.

Tabell 1-28 Sammensetning og driftsforhold for kjemisk gullpletteringsløsning med kaliumborhydrid
Sammensetning og drift Serienummer
1 2 3
Kaliumgullcyanid/(g/L) 0,02 mol/l (5,8 g/l) 0,03 mol/l (8,6 g/l) 0,005 mol/l (1,45 g/l)
Kaliumcyanid 0,2 mol/l (13,0 g/l) 0,2 mol/l (13,0 g/l) 0,1 lmol/L (6,5 g/L)
Kaliumhydroksid 0,2 mol/l (11,2 g/l) 0,2 mol/l (22,4 g/l) 0,2 mol/l (11,2 g/l)
Kaliumborhydrid 0,4 mol/l (21,6 g/l) 0,8 mol/l (43,1 g/l) 0,2 mol/l (10,8 g/l)
Temperatur/°C 75 75 75
Tabell 1-29 Egenskaper til kjemisk gullpletteringsløsning med kaliumborhydridreduksjonsmiddel
Natur Data Natur Data
Bindingsstyrke Utmerket bindingsstyrke i metalllaget Porøsitet Ingen porer større enn 1 μm på den ensartede overflaten
Utseende Matt gul Renhet 99. 9%
Tetthet Gullinnhold 19,3 g/cm3 Motstandsverdi 0,03Ω/cm2 (Au: 1 μm)
Hardhet Nup-hardhet 60-80 Loddbarhet Glimrende
Figur 1-27 Gjennomsnittlig platingtykkelse av Okinaka-platingløsning over platingstid
Figur 1-27 Gjennomsnittlig platingtykkelse av Okinaka-platingløsning over platingstid
Tabell 1-30 Funksjoner til komponenter i kjemisk gullpletteringsløsning med kaliumborhydrid
Påvirkende faktorer Kaliumborhydrid-pletteringsløsning DMAB (dimetylaminoboran) platingløsning
Effekt av gullkonsentrasjon Når gullkonsentrasjonen når 0,002 mol/L, øker nedbørsmengden kraftig og synker over dette. Nedbørshastigheten øker lineært ved en gullkonsentrasjon på 0,01 mol/l, men har ingen effekt over det.
Effekter av kaliumcyanid

Ustabil platingløsning når den er under 0,005 mol/l.

Gull utfelles ikke over 0,2 mol/l.

Samme som venstre
Effekt av kaliumborhydrid BH er ikke stabil ved romtemperatur. Tilsetning av kaliumhydroksid forbedrer badets stabilitet, og utfellingshastigheten avtar med økende konsentrasjon. DMAB er stabil ved romtemperatur, utfellingshastigheten øker med økningen av kaliumhydroksid.
Konsentrasjon av reduksjonsmiddel Økning i nedbørsmengde med økning i konsentrasjon
Effekt av temperaturen på platingbadet Øk nedbørshastigheten med 10 ℃, og dekomponer ved 85 ℃.
Maksimal platinghastighet for Okinaka kjemisk gullpletteringsløsning er 2 μm/t: Etter omtrent en halv dag gjennomgår platingløsningen en selvdekomponeringsreaksjon, og den påvirkes sterkt av styrken på luftomrøringen og mengden luft, så denne platingløsningen er ikke praktisk.

   

(2) Påvirkning av platinghastighet og tungmetallioner 

Tilsetning av spormengder av tungmetallioner (bly, tallium, etc.) til den kjemiske gullbeleggløsningen øker avsetningshastigheten betydelig. McIntyre forklarte denne effekten slik. På grunn av lavt potensial for avsetning fremmer den katalytiske effekten av adsorberte blyatomer, som vist i mekanismene (1-4) og (1-5), kimdannelse.

                               Pb2+ + 2e → Pbannonse                           (1–4)

           2Au(CN)2 + Pbannonse → 2Au + Pb2+ + 4CN                (1–5)

På grunn av den store forskjellen i arbeidsfunksjoner mellom kobber, gullmaterialer og blyioner, reduseres og avsettes bly ved et potensial som er mer positivt enn det termodynamiske redokspotensialet, og danner et monolag. På grunn av den katalytiske reaksjonen av adsorberte blyatomer som i (1-4) og (1-5), skjer reduksjonsreaksjonen av Au(CN) raskt, noe som effektivt fremmer avsetningen av gull.

Forholdet mellom blykonsentrasjon og avsetningshastighet i kaliumborhydridreduserende gullpletteringsløsning er vist i figur 1-28, og pletteringsløsningens sammensetning er vist i tabell 1-31. Bly tilsettes i form av blynitrat. Figur 1-28 viser at blytilsetningskonsentrasjonen i pletteringsløsningen bare kan være omtrent 20 ml/l, og å tilsette mer har ingen effekt.

Figur 1-28 Effekt av blyioner på gullavsetningshastigheten i kaliumborhydridpletteringsløsning
Figur 1-28 Effekt av blyioner på gullavsetningshastigheten i kaliumborhydridpletteringsløsning
Tabell 1-31 Sammensetning og driftsforhold for gullbeleggløsning med kaliumborhydrid
Sammensetning og driftsforhold I II Sammensetning og driftsforhold I II
Kaliumgullcyanid/(g/L) 2 2 Kaliumcyanid /(g/L) 10 10
Kaliumborhydrid/(g/L) 2 10 EDTA-2Na/(g/L) 5 5
Kaliumcyanid/(mg/L) 5 5 Temperatur på platingløsning/°C 75 75
På den annen side, når DMAB brukes som reduksjonsmiddel, oppnår platingløsningen i tabell 1-32 en maksimal platinghastighet på omtrent 7 μm/t.
Tabell 1-32 Sammensetning av BMAB-gullbelegningsløsning
Sammensetning og driftsforhold Konsentrasjon Sammensetning og driftsforhold Konsentrasjon
Kaliumgullcyanid/(g/L) 2 Kaliumcyanid /(g/L) 30
BMAB/(g/L) 10 EDTA-2Na/(g/L) 5
Kaliumcyanid/(mg/L) 5 pH 13.6
Effektene av andre spormetaller enn gull, som bly, tallium, arsenikk og kobberioner, er vist i figur 1-29.
Figur 1-29 Effekt av bly, tallium, kobber og arsenikk på gullavsetningshastigheten
Figur 1-29 Effekt av bly, tallium, kobber og arsenikk på gullavsetningshastigheten
Vanligvis er det viktigste gullsaltet som brukes kaliumgull(I)cyanid. Med tanke på stabiliteten til platingløsningen kan kaliumgull(III)cyanid-platingløsning også brukes. Matsuoka introduserte effekten av å tilsette bly og tallium på gullplatinghastigheten i platingløsningen, som vist i tabell 1-33, og foreslo følgende konklusjoner.
Tabell 1-33 Sammensetning av kjemisk gullpletteringsløsning med kaliumgull(III)cyanid
Sammensetning Parametere Sammensetning Parametere
KAu(CN)4/(g/L) 4 KOH/(mg/L) 11.2
KBH4/(g/L) 3 Temperatur/℃ 70
PbCl2/(mg/L) 0.5
Effektene av temperatur og blykonsentrasjon på gullavsetningshastigheten er vist i figur 1-30, og forholdet mellom gullbeleggtykkelse og tid er vist i figur 1-31. Betingelsene uten omrøring (monovalent gullbeleggløsning, kurve 1) og ingen omrøring (trivalent gullbeleggløsning, kurve 2) er de samme (figur 1-32 og 1-33). Etter omtrent 1 time avtar belegghastigheten. Endringen i belegghastighet på dette tidspunktet skyldes ikke reduksjonen av beleggløsningens komponenter, men fordi endringer som skjer på overflaten av det gullavsatte laget påvirker belegghastigheten. Beleggtykkelsen øker proporsjonalt i den omrørte beleggløsningen i omtrent 2 timer, og belegghastigheten avtar. Belegghastigheten i kurve 5 gjenopprettes på grunn av fornyelse av beleggløsningen. I denne omrørte beleggløsningen forbrukes nedgangen i belegghastigheten av beleggløsningens komponenter. Figur 1-32 viser forholdet mellom de tilsatte konsentrasjonene av bly og tallium og avsetningshastigheten.
Figur 1-30 Effekt av temperatur og blykonsentrasjon på gullutfellingshastigheten

Figur 1-30 Effekt av temperatur og blykonsentrasjon på gullutfellingshastigheten

Figur 1-31 Forholdet mellom pletteringstid og tykkelse på det gullbelagte laget 1-Au+-væske uten omrøring; 2-Au3+-væske uten omrøring; 3-Au3+-væske under omrøring; 4-Au3+-væske under påfylling; og 5-Au3+-væske under fornyelse

Figur 1-31 Forholdet mellom platingstid og tykkelsen på det gullbelagte laget

1 - Ingen omrøring av Au+ væske; 2 - Ingen omrøring Au3+ væske; 3 - Omrøring av Au3+ væske; 4 - Etterfylling av Au3+ væske; og 5 - Fornyelse av Au3+ flytende

Figur 1-32 Effekt av tilsatte konsentrasjoner av bly og tallium på gullbelegghastigheten

Figur 1-32 Effekt av tilsatte konsentrasjoner av bly og tallium på gullbelegghastigheten

Figur 1-33 Porøsitet i det elektroløse gullbelegget

Figur 1-33 Porøsitet i det elektroløse gullbelegget

Tilsetning av spormengder av bly eller tallium under galvaniseringsprosessen har en ekstremt negativ effekt på bindingen av høyrente gullbelegglag, slik at konsentrasjonen av PbCl2 er passende 0,5 mg/L. For porøsitetsdeteksjon av platingslaget, etter gullplettering på kobber, plasseres prøven i 20% salpetersyre og utsettes for ultralydbehandling; deretter måles det oppløste kobberet ved hjelp av atomabsorpsjonsspektroskopi, etterfulgt av evaluering. Som vist i figur 1-33, synker porøsiteten betydelig med økende tykkelse opp til en platingtykkelse på 2 μm.

Den kjemiske gullbelegningsprosessen av krystallisert glass (SiO2 46% + Al2O3 16% + MgO 17% + K2O 10% + F 4% + B2O3 7%) er vist i figur 1-34.

Figur 1-34 Kjemisk gullbeleggingsprosess på krystalliserte glassmaterialer
Figur 1-34 Kjemisk gullbeleggingsprosess på krystalliserte glassmaterialer

4. Reaksjonsmekanisme for kjemisk gullpletteringsløsning med borhydridsalt

Lin Zhongfu et al. foreslo at gullbeleggløsningene med kaliumborhydrid og DMAB (dimetylaminboran) i tabell 1-34 kan bli praktiske gullbeleggløsninger etter tilsetning av stabilisatorer.


(1) Sammensetning av to platingløsninger: Tabell 1-34 viser de to sammensetningene.

Tabell 1-34 Kaliumborhydrid og DMAB kjemiske platingløsninger
Sammensetning av platingløsning Kaliumborhydrid-pletteringsløsning DMAB-plateringsløsning
Kaliumgullcyanid/(mol/L) 0.02 0.02
Kaliumcyanid/(mol/L) 0.2 0.02
Kaliumhydroksid/(mol/L) 0.2 0.8
Kaliumborhydrid/(mol/L) 0.4 -
DMAB/(mol/L) - 0.4
Temperatur/°C 75 85
Plateringshastighet/(μm/t) 0.7 0.4

   

(2) Reaksjonsmekanisme: I kaliumborhydrid-gullbeleggløsningen, BH4 i seg selv produserer ikke en reduserende effekt, men den mellomliggende BH3ÅH av hydrolyseproduktet BO2 fungerer som reduksjonsmiddel.

BH4 + H2O → BH3ÅH+ H2                   (1-6)
BH3ÅH + H2O → B O2 + 3 timer2                (1-7)

Ved gullanoden, reduksjonsmiddelet BH3ÅH gjennomgår følgende oksidasjonsreaksjon:

BH3ÅH + 3OH → BO2 + 3/2 timer+ 2 timer2O + 3e                  (1-8) 

Ved katoden gjennomgår gullioner følgende reduksjonsreaksjon:

Au(CN)2 + e → Au + 2CN                         (1-9)

Den totale reaksjonen av elektroløs gullplettering i kaliumborhydridpletteringsløsning er:

BH3ÅH + 3Au(CN)2 + 3OH → BO2– + 3/2 timer+ 2 timer2O + 3Au + 6CN                      (1-10)

Hydrolysereaksjonene i ligningene (1-6) og (1-7) ble analysert ved hjelp av polarografi. Resultatet viser at reaksjon (1-7) er 500 ganger raskere enn reaksjon (1-6). Derfor er utnyttelsesgraden for kaliumborhydrid i gullpletteringsreaksjonen svært lav. Under typiske pletteringsforhold overstiger ikke den effektive utnyttelsesgraden 2%~3%, og mesteparten av reduksjonsmidlet forblir ineffektivt på grunn av hydrolyse.

Hydrolysereaksjonen ovenfor forløper raskt ved lav pH (syrekatalysert reaksjon), og gullavsetningshastigheten er høy når kaliumhydroksidkonsentrasjonen er lav. For å forhindre naturlig nedbrytning av gullbeleggløsningen må kaliumhydroksidkonsentrasjonen opprettholdes på minst 0,1 mol/L. Forholdet mellom gullavsetningshastigheten og kaliumhydroksidkonsentrasjonen er vist i figur 1-35.

Figur 1-35 Kurve for variasjon i platinghastighet med kaliumhydroksidkonsentrasjon [KAu(CN)2 0,02 mol/L, KCN (heltrukket linje) 0,2 mol/L, KCN (stiplet linje) 0,1 mol/L, 80 °C]

Figur 1-35 Kurve for variasjon i platinghastighet med kaliumhydroksidkonsentrasjon

[KAu(CN)2 0,02 mol/L, KCN (heltrukket linje) 0,2 mol/L, KCN (stiplet linje) 0,1 mol/L, 80 °C]

Figur 1-36 Effekt av kaliumhydroksidkonsentrasjon på platinghastigheten til DMAB-platingløsning, DMAB [KAu(CN)2 0,02 mol/L, KCN 0,2 mol/L, DMAB 0,4 mol/L, 75 ℃]

Figur 1-36 Effekt av kaliumhydroksidkonsentrasjon på platinghastigheten til DMAB-platingløsning, DMAB

[KAu(CN)2 0,02mol/L, KCN 0,2mol/L, DMAB 0,4mol/L, 75 ℃]

Forholdet mellom gullavsetningshastigheten i DMAB-pletteringsløsningen og konsentrasjonen av kaliumhydroksid er motsatt av forholdet i kaliumborhydridpletteringsløsningen, som vist i figur 1-36. I DMAB-pletteringsløsningen er BH3ÅH fungerer fortsatt som reduksjonsmiddel.

(CH3)2NH2 • BH+ ÅH → (CH3)2NH+ BH3ÅH–                       (1-11)

I prosessen med å generere BH3ÅH Fra DMAB må DMAB reagere direkte med OH- når alkaliniteten er sterk. Når alkaliniteten er sterk, øker genereringshastigheten til BH3ÅH er rask, og gullavsetningshastigheten er også rask.

   

(3) Problemer med kaliumborhydrid-pletteringsløsning og DMAB-pletteringsløsning

Figur 1-37 viser at platinghastigheten endres med konsentrasjonen av kobber- og nikkelioner i platingløsningen. Når nikkelionkonsentrasjonen er på 10-5mol/L, begynner platinghastigheten å avta, og når nikkelionkonsentrasjonen når 10-3mol/L, dekomponerer platingløsningen. Kobberioner har nesten ingen effekt på platinghastigheten. I den første fasen av gullpletteringen gjennomgår gullioner og nikkel en fortrengningsreaksjon, spormengder av nikkelioner løses opp, og platinghastigheten avtar.

Figur 1-37 Effekt av kobberioner og nikkelioner på platinghastighet

Figur 1-37 Effekt av kobberioner og nikkelioner på platinghastighet

Figur 1-38 Effekt av spor av nikkelioner på den anodiske oksidasjonsstrømmen til BH3OH (roterende gullelektrode, 2000 o/min, 75 ℃, KOH 0,2 mol/L, KCN 0,1 mol/L)

Figur 1-38 Effekt av spor av nikkelioner på den anodiske oksidasjonsstrømmen til BH3ÅH

(Roterende gullelektrode, 2000 o/min, 75 ℃, KOH 0,2 mol/L, KCN 0,1 mol/L)

Effekten av å tilsette spormengder av nikkelioner på BH3ÅH Den anodiske oksidasjonsstrømmen er vist i figur 1-38. Tilsetning av spor av nikkelioner hemmer oksidasjonsreaksjonen til reduksjonsmiddelet BH betydelig.3ÅH på den gullroterende skiveanoden. Dette er fordi nikkelioner finnes i form av cyanidligandsaltet Ni(CN)42- , og dette komplekse ionet adsorberer fortrinnsvis på gulloverflaten, noe som hindrer avsetningen av gull.

Ustabile basislag (som aluminiumnitrid) kan ikke bruke sterkt alkaliske løsninger. pH-verdien i platingløsningen avhenger av reduksjonsmiddelets natur, som er den største ulempen med kaliumborhydrid- og DMAB-platingløsninger.

Angående problemene ovenfor, bortsett fra at pH-verdien i platingløsningen ikke kan endres, kan andre aspekter forbedres.

   

(4) Forbedre gullbeleggløsningen for kaliumborhydrid og gullbeleggløsningen for DMAB


① Øk platinghastigheten


  • a. Endre platingløsningens grunnleggende sammensetning og driftsforhold for å øke platinghastigheten.
  • b. Øk rørehastigheten.
  • c. Øk temperaturen på platingløsningen.
  • d. Reduser konsentrasjonen av fritt cyanid.
  • e. Reduser alkalikonsentrasjonen i kaliumborhydrid-pletteringsløsningen og øk alkalikonsentrasjonen i DMAB-pletteringsløsningen.
  • f. Øk konsentrasjonen av reduksjonsmiddelet. Men når platinghastigheten uten spesielle tilsetningsstoffer øker med omtrent 2 μm/t eller mer, blir platingløsningen ustabil og utsatt for nedbrytning.

   

② Høyhastighets platingløsning


  • a. Tilsett polarisasjonseliminatorer. I myke gullbeleggløsninger, Pb2+ , T1+ Ioner er effektive polarisasjonseliminatorer. Disse ionene adsorberer sterkt på gulloverflaten, noe som produserer det såkalte UPD-fenomenet (under potensialavsetning), der bly avsettes med et potensial som er mye mer positivt enn blyets potensial.2+ / Pb-likevektspotensial og thalliumavsetninger ved et potensial som er mer positivt enn T1+ /T1 likevektspotensial. Det avsatte blyet, thalliumet og Au(CN)2 gjennomgår fortrengningsreaksjoner, noe som fører til at gullavsetningsreaksjonen skifter til et mer positivt potensial (polarisasjonssvekkelse). På den annen side, å tilsette disse ionene til kjemiske gullbeleggløsninger, på samme måte som elektrolytisk belegg, forskyver Au(CN)2 reduksjonspotensialet i positiv retning, noe som resulterer i en økt platinghastighet, som kan nå omtrent 10 μm/t. Platingløsninger med tilsatt bly2+ , T1+ ioner er vist i tabell 1-35 og 1-36.

Tabell 1-35 Kaliumborhydrid-pletteringsløsning med tilsatt bly2+
Løsning 1 Løsning 1
Kaliumgullcyanid 5 g/L Kolloidal 2 g/L
Kaliumcyanid 8 g/L Løsning 2
Natriumsitrat 50 g/l Kaliumborhydrid 200 g/l
EDTA 5 g/L Natriumhydroksid 120 g/L
Blyklorid 0,5 g/L
Merk: Løsning 1 og 2 blandes inn i gullbeleggløsningen i et volumforhold på 10:1 og belegges under 75~85 ℃, omrørt med en belegghastighet på 4 μm/30 min.
Tabell 1-36 Kaliumborhydrid-pletteringsløsning med tilsatt T1+
Sammensetning og driftsforhold Parametere Sammensetning og driftsforhold Parametere
Kaliumgullcyanid Juster etter behov Kaliumborhydrid 5,4 ~ 10,8 g/L
Kaliumcyanid 6,5 g/L Temperatur 70 〜 80 ℃
Kaliumhydroksid 11,2 g/L Pletteringshastighet <10 μm/t
Talliumsulfat 5 〜 100 mg/L
Tilsetning av blyklorid eller titanklorid til kaliumgull(III)cyanidpletteringsløsningen [KAu(CN)4], øker platinghastigheten med 8~9 ganger sammenlignet med den uten tilsetning. Au(CN)4 i platingløsningen reduseres med BH4 til [Au(CN)2], så denne platingløsningen er i hovedsak den samme som en nylaget KAu(CN)2 platingløsning. Fordi Au(CN)4gjennomgår en reduksjonsreaksjon, og produserer Au(CN)2 og gratis CN, denne platingløsningen trenger ikke å tilsette kaliumcyanid når man lager en ny platingløsning. Reaksjonsformelen er som følger:

Au(CN)4 + 2e → Au(CN)2 + 2CN                  (1-12)

Polarisasjonskurvene for reduksjonsreaksjonen til Au(CN)2 før og etter tilsetning av Pb2+ er vist i figur 1-39. Gullavsetningen fra Au(CN)2 reaksjonspolarisasjonskurven viser effekten av Pb2+ eliminere polarisering. Effekten av å tilsette Pb2+, T1+ ioner for å fremme gullpletteringsreaksjonen er vist i figur 1-40.
Figur 1-39 Effekt av tilsetning av blyklorid på polarisasjonskurven for Au(CN)2-reduksjonsreaksjonen til [Roterende gullelektrode, KAu(CN)2 0,009 mol/L, KOH 0,2 mol/L]

Figur 1-39 Effekt av å tilsette blyklorid på Au(CN)2--reduksjonsreaksjonspolarisasjonskurve [Roterende gullelektrode, KAu(CN)2 0,009 mol/l, KOH 0,2 mol/l]

Figur 1-40 Effekt av konsentrasjonen av talliumklorid (kurve 1) og blyklorid (kurve 2) på gullpletteringshastigheten til kaliumborhydridpletteringsløsningen

Figur 1-40 Effekt av konsentrasjonen av talliumklorid (kurve 1) og blyklorid (kurve 2) på gullpletteringshastigheten til kaliumborhydridpletteringsløsningen

Pb-en2+ konsentrasjonen i plateringsløsningen er for høy, noe som forårsaker forringelse av gullbeleggets utseende. Selv om Pb2+ Hvis konsentrasjonen overstiger 10 mg/L, forårsaker ikke tilsetning av alkanolaminer (som trietanolamin) forringelse og muliggjør høyhastighetsgullbelegging (>3 μm/t). Tilsetning av andre elementer som gallium, indium, germanium, tinn, antimon eller vismut kan oppnå samme fremmende effekt.

  • b. Tilsetning av stabilisatorer. Tilsetning av organiske stabilisatorer som reduserer gullets katalytiske aktivitet, økning av temperaturen i platingsløsningen og endring av konsentrasjonen av reduksjonsmiddelet kan forbedre platingshastigheten til løsningen. For eksempel kan platingshastigheten til platingsløsninger som inneholder aminoeddiksyre, hydroksyetyletylendiamintetraeddiksyre og diazotrieddiksyre eller ravsyrederivater nå en høy hastighet på 12~23 μm/t ved 90 ℃. Ved høye temperaturer akselererer imidlertid hydrolysereaksjonen til reduksjonsmiddelet betydelig, noe som gjør platingsløsningen vanskelig å kontrollere. Tilsetning av spormengder av p-dimetylaminoazobenzen-stabilisator påvirker ikke stabiliteten til platingsløsningen og kan øke den vanlige brukskonsentrasjonen av BH4- med 2 ganger, noe som øker platingshastigheten til 5 μm/t. Andre effektive stabilisatorer inkluderer etylenglykol, etyleter, dietylenglykol[?]etyleter og polyetylenimin.



  • c. Bruk trivalente gullcyanidkomplekssalter. Platingløsninger med trivalente gullcyanidkomplekssalter, slik som de med tilsatt blyklorid eller titanklorid, som vist i tabell 1-33, er detaljert beskrevet i tabell 1-37.

Tabell 1-37 Kaliumgull(III)cyanid Kaliumborhydrid-pletteringsløsning
Sammensetning og driftsforhold Parametere Sammensetning og driftsforhold Parametere
Kaliumgull(III) 3 g/L Blyklorid 0,5 mg/L
Kaliumhydroksid 11,2 g/L Temperatur 70 ℃
Kaliumborhydrid 3 g/L

Fordelen med trivalent gullcyanidkomplekssaltpletteringsløsning er at KAuO2 og KAu(OH)4 kan brukes som supplerende gullsalttilsetninger, noe som unngår overdreven akkumulering av frie cyanidioner i platingløsningen, reduserer platinghastigheten og favoriserer en langsiktig stabil platinghastighet. Platinghastigheten for additivfri platingløsning er 2~8 μm/t.

Studien av den elektrokjemiske oppførselen, strukturen og egenskapene til DMAB-pletteringsløsningen viser at KAu(CN) i likhet med kaliumborhydridpletteringsløsningen2 brukes kun når man tilbereder gullpletteringsløsningen, og oppløst gullhydroksid i kaliumhydroksidløsning tilsettes som et supplement for å unngå akkumulering av frie cyanidioner. Sammensetningen av pletteringsløsningen er vist i tabell 1-38.

Tabell 1-38 DMAB-pletteringsløsning (gullhydroksid oppløst i kaliumhydroksidløsning)
Sammensetning og driftsforhold Parametere Sammensetning og driftsforhold Parametere
Kaliumgullcyanid 0,013 ~ 0,018 mol/L Tilsetningsstoff Liten mengde
DMAB 0,07 〜 0,1 mol/L pH 13.1 ~ 13.4
Kaliumhydroksid 0,09 〜 0,15 mol/L Temperatur 70 〜 75 ℃
Kaliumcyanid 0,007 ~ 0,01 mol/L Pletteringshastighet 2 μm/t

   

(5) Forbedre stabiliteten til platingløsningen.

Bruk av tilsetningsstoffer kan øke platinghastigheten og stabiliteten til platingløsningen, men urenhetene som produseres vil føre til at platingløsningen brytes ned.

Stoffer som EDTA og etanolamin tilsatt platingløsningen danner sterke, komplekse ioner med metallurenheter, noe som hemmer reaksjonen mellom metallurenheter og BH4.4 og BH3ÅH, og forbedrer dermed stabiliteten til platingløsningen. Sammensetningen av kaliumborhydrid-platingløsningen med tilsatt EDTA og etanolamin er vist i tabell 1-39.

Tabell 1-39 Kaliumborhydrid-pletteringsløsning med tilsatt EDTA og etanolamin
Sammensetning og driftsforhold Parametere Sammensetning og driftsforhold Parametere
Kaliumgullcyanid 1,45 g/L EDTA 5 g/L
Kaliumcyanid 11 g/L Etanolamin 50 ml/l
Kaliumhydroksid 11,2 g/L Temperatur 72 ℃
Kaliumborhydrid 10,8 g/L Pletteringshastighet 1,5 μm/t
Forgyllingen må først gjøres på metallisk nikkel ved fortrengningsbelegging, etterfulgt av kjemisk forgylling. Fortrengningsgullbelegging kan ikke dekke basislaget av nikkel fullstendig og grundig. Tilsetning av et reduksjonsmiddel kan løse problemet med redusert stabilitet i beleggingsløsningen forårsaket av oppløsning av spormengder av nikkelioner. I DMAB-beleggingsløsningen tilsettes et andre reduksjonsmiddel, hydrazin. Sammensetningen av beleggingsløsningen er vist i tabell 1-40. Blyacetat og kaliumkarbonat fremmer henholdsvis den anodiske reaksjonen og den lokale katodiske reaksjonen, og øker dermed beleggingshastigheten.
Tabell 1-40 Plateringsløsning med to reduksjonsmidler (hydrazin og DMAB)
Sammensetning og driftsforhold Parametere Sammensetning og driftsforhold Parametere
Kaliumgullcyanid 0,005 mol/L DMAB 0,05 mol/L
Kaliumcyanid 0,035 mol/L Hydrazin 0,25 mol/L
Kaliumhydroksid 0,8 mol/L Temperatur 80 ℃
Kaliumkarbonat 0,45 mol/L Pletteringshastighet på nikkelbasislaget (innledende trinn) 2,6 μm/t
Blyacetat 15X10-6 På gullet (fast verdi) 7,8 μm/t
I platingløsningen er den første reaksjonen katalytisk oksidasjon av hydrazin av nikkelbasislaget, som fungerer som en katalysator. I motsetning til dette reduserer hydrazin gullioner for å avsette gull. Etter at nikkelbasislaget er fullstendig dekket av gull, fungerer DMAB som reduksjonsmiddel, og den vanlige autokatalytiske gullpletteringsreaksjonen skjer, med gull som fortsetter å avsettes. De anodiske oksidasjonskurvene for hydrazin og DMAB på nikkel- og gullelektroder viser at hydrazin lett oksideres på nikkelelektroden, men ikke på gullelektroden (figur 1-41). Omvendt oksideres DMAB lett på gullelektroden, men oksideres knapt på nikkelelektroden, som vist i figur 1-42. Denne forskjellen i katalytisk aktivitet mellom substratmetallet og det avsatte gullmetallet for oksiderende reduksjonsmidler er et kjennetegn ved substratkatalysert gullplettering.
Figur 1-41 Polarisasjonskurver for den anodiske oksidasjonsreaksjonen av hydrazin på nikkelelektroden og den katodiske reduksjonsreaksjonen av Au(CN)2-. (KOH 0,8 mol/L, KCN 0,035 mol/L, N2H4 0,05 mol/L, 80℃)

Figur 1-41 Polarisasjonskurver for den anodiske oksidasjonsreaksjonen av hydrazin på nikkelelektroden og den katodiske reduksjonsreaksjonen av Au(CN)2-.

(KOH 0,8mol/L, KCN 0,035mol/L, N2H4 0,05 mol/L, 80 ℃)

Figur 1-42 Polarisasjonskurver for den anodiske oksidasjonsreaksjonen til DMAB på nikkel- og gullelektroder og den katodiske reduksjonsreaksjonen til Au(CN)2- (KOH 0,8 mol/L, KCN 0,035 mol/L, DMAB 0,05 mol/L, 80 ℃)

Figur 1-42 Polarisasjonskurver for den anodiske oksidasjonsreaksjonen til DMAB på nikkel- og gullelektroder og den katodiske reduksjonsreaksjonen til Au(CN)2-

(KOH 0,8mol/L, KCN 0,035mol/L, DMAB 0,05mol/L, 80℃)

I en platingløsning som kun inneholder reduksjonsmiddelet hydrazin, kan gull avsettes utelukkende ved hjelp av den katalytiske effekten av nikkelbasislaget. Når basislaget er fullstendig dekket av gull, stopper gullavsetningen, og på dette tidspunktet avhenger tykkelsen på gullplatingslaget av konsentrasjonen av fritt cyanid i platingløsningen. Selv om den maksimale platingtykkelsen til denne platingløsningen er begrenset (ca. 2 μm), er platingslaget tett nok til å oppfylle kravene til nøkkeltrykkbinding.

Foruten hydrazin finnes det mange andre tilgjengelige reduksjonsmidler i den katalytiske gullbeleggløsningen; se tabell 1-41.

Tabell 1-41 Andre reduksjonsmiddelpletteringsløsninger
Reduksjonsmiddel pH Temperatur/℃
Hypofosfitt 7 〜 7. 5 93
7,5 〜 13,5 96
3 〜 4 70 〜 80
Hydrazin 7 〜 7. 5 92 〜 95
5. 8 〜 5. 9 95
11. 7 95
Hydroksylamin 2. 3 〜 2. 8 70 〜 85
Natriumcyanoborhydrid (NaBH3CN) 3.5 90
Hydrazinylboran (N2H4 ・ BH3) >13 60
Tiourea 6,5 〜 7,0 83 〜 90
4.2 80 ~ 85
Askorbinsyre 8 63
Titantriklorid 5 75

5. Kjemisk gulllegeringsplettering

(1) Gull-sølv-legering: 

En kjemisk gull-sølvlegering kan oppnås ved kontinuerlig å tilsette kaliumsølvcyanidløsning til borhydridgullbeleggingsløsningen. Ag(CN)2 reduseres lettere enn Au(CN)2Når man tilbereder en ny platingløsning, vil sølv utfelles først hvis de to blandes, og legeringen kan ikke belegges.

Ved kontinuerlig å tilsette små mengder kaliumsølvcyanid dråpevis i plateringsløsningen, opprettholde en relativt lav kondensasjon [molforhold Au:Ag (26:10~(26:0,5)]. Et platingslag av gull-sølvlegering med et sølvinnhold på 80%~20% kan utfelles. I denne platingsløsningen er utfellingen av sølv et erstatningsreaksjonsprodukt av gullet som utfelles først og Ag(CN)2, i løsning.

   

(2) Gull-kobberlegering:

I konvensjonelle kjemiske kobberpletteringsløsninger basert på koordinasjonsbasert EDTA og formaldehydreduksjonsmiddel, kan bare kaliumgullcyanid plettere en gull-kobberlegering. Ved å endre kaliumgullcyanidkonsentrasjonen kan kobbermassefraksjonen i gulllegeringspletteringslaget justeres fra 1%~94%.


   

(3) Gull-tinn-legering:

Kjemisk platingløsning for gull og tinnlegering bruker SnCl2 reduksjonsmiddelmetoden. Sammensetningen og konsentrasjonsområdet til platingløsningen er vist i tabell 1-42.

Tabell 1-42 Løsning for belegering av gull-tinnlegering
Sammensetning og driftsforhold Parametere Sammensetning og driftsforhold Parametere
Kaliumgull(III)-cyanid 4–10 g/l Triolefin 0,05 ~ 0,5 g/L
Kaliumcyanid 5–15 g/l Temperatur Romtemperatur
Kaliumhydroksid 60–100 g/l Pletteringshastighet 1,5 μm/t (uten tilsetning av triolefin)
Stannklorid 40–60 g/l 5 μm/t (triolefintilsetning 0,5 g/L)
Gull-tinn-legeringen er en eutektisk legering med lavt smeltepunkt. Tinninnholdet i legeringsbelegglaget kan justeres fra 5% til 60%. Tilsetning av en liten trien til beleggløsningen øker belegghastigheten. Tinnavsetningen i denne beleggløsningen er en disproporsjoneringsreaksjon av toverdig tinn.

   

(4) Gull-indium-legering: 

Gull-indium-legeringspletteringsløsningen fremstilles ved å tilsette Ih2(SO4)3 og EDTA til en borhydridløsning. Indiuminnholdet i platinglaget er 1%~4%. Ved romtemperatur har et tynt gull-indium-legering-platingslag avsatt på palladiumaktivert n-GaAs, etter 350 ℃ varmebehandling, en kontaktmotstand som er bedre enn rent gull.


   

(5) Gull-nikkel, gull-kobolt-legeringer: 

Uemaki utviklet 18–22 karat blanke gull-nikkel- og gull-koboltlegeringsløsninger. Ved pH 3–5 har gulllegeringslaget med cyanidbasert kjemisk gullpletteringsløsning tilsatt reduksjonsmiddel natriumhypofosfitt fysiske egenskaper som hardhet og slitestyrke som er dårligere enn de til elektropletteringslag med gulllegering som inneholder nikkel og kobolt.

Seksjon II Cyanidfri kjemisk gullbelegg

1. Oversikt

Fortrengningstype gullbelegg bruker potensialforskjellen mellom oksidasjonspotensialet til basislagsmetallet og reduksjonspotensialet til gullioner som drivkraft for platingsreaksjonen. I motsetning til dette bruker kjemisk gullbelegg av reduksjonstype potensialforskjellen mellom oksidasjonspotensialet til reduksjonsmiddelet og reduksjonspotensialet til gullioner som drivkraft for platingsreaksjonen.

Elektronene som er involvert i reduksjonsreaksjonen av gullioner, tilveiebringes enten av oksidasjonsreaksjonen av basislagsmetallet (forskyvningsgullbelegg) eller av oksidasjonsreaksjonen av reduksjonsmiddelet (reduktiv gullbelegg).

Andre metoder inkluderer: ① Tilsetning av tungmetallsalter til fortrengningsgullbeleggløsningen, hvor metalloverflaten på basislaget adsorberer tungmetallene, og dermed forskyver potensialet i en retning som gjør det lettere å redusere gullioner; ② Tilsetning av et reduksjonsmiddel til fortrengningsgullbeleggløsningen, slik at redoksreaksjoner kan forekomme samtidig for å belegge tykkere gull; ③ I gullbeleggløsninger som inneholder reduksjonsmidler, fungerer edelmetallet i basislaget som et reduksjonsmiddel og gjennomgår oksidasjon med en katalysator, noe som utfører katalytisk kjemisk gullbelegg på basislaget.

Ligander i kjemiske gullbelegningsløsninger bruker vanligvis cyanid, som danner svært stabile komplekser med gullioner (stabilitetskonstant K = 4 × 1028For tiden har mange halvlederkomponenter gått over til å bruke nesten nøytrale, lavcyanid- eller cyanidfrie gullbeleggløsninger, for eksempel sulfitt- eller tiosulfatgullbeleggløsninger og cyanidfrie kjemiske gullbeleggløsninger med tiol RSH-serieligander.

2. Kjemisk gullbelegg av fortrengningstype

Generelt er bindingsstyrken mellom redusert type tykklags elektroløs gullbelegg og basislaget av basismetaller relativt dårlig. Derfor må elektroløs gullbelegg av fortrengningstype utføres før et tykt gulllag belegges.

I fortrengningstypen forgullbeleggløsning løses basislagets basismetall opp (oksideres) i elektrolyttløsningen og frigjør elektroner. I motsetning til dette tar gullionene i løsningen imot elektroner og avsettes (reduseres) på ikke-metalloverflaten. Dannelsen av gullligander reduserer konsentrasjonen av gullioner i beleggløsningen, og forskyver reduksjonspotensialet i negativ retning, som vist i tabell 1-43.

Tabell 1-43 Ligander og reduksjonspotensialer for gullionkomplekser
Ligander Ligand E/V
H2O

Au(H2Å)2+

Au(H2Å)43+

1.68

1.50

Cl-

AuCl2 -

AuCl4 -

1.15

0.92

SCN-

Au(SCN)2 -

Au(SCN)4 -

0.67

0.64

I-

AuI2-

AuI4-

0.58

0.57

NH3 Au(NH)43+ 0.56
ÅH- Au(OH)4 - 0.48
Tiourea Au (tor)2+ 0.38
S2O32- Au(S2O3)23- 0.15
SO32- Au(SO3)23- 0.06
R-SH Au(RS)2- -0,3 〜 - 0,5
CN- Au(CN)2 - -0.65

Tabell 1-43 viser at foruten cyanider kan andre ligander som tioler, sulfitter og tiosulfater også danne stabile komplekser med gullioner og utvise negative potensialer.

I sulfittsystemets fortrengningstype gullbeleggløsning kan man, i tillegg til sulfitterioner, også bruke ligander som polyaminpolykarboksylsyrer og deres salter, vannløselige aminer, aminsalter, etylendiamintriacetatsalter, stabilisatorer som tetraalkylammoniumsalter, etylendiamintetra(metylenfosfonat), sukkerarter og tiolforbindelser. Konsentrasjonene av ammoniumioner, kloridioner, sulfationer, bromidioner eller jodidioner må opprettholdes innenfor et bestemt område og ikke være for høye; ellers kan det dannes ammonium(kompleks)-gullligander i platingløsningen, hvis redokspotensial er mer positivt enn natriumsulfitt. Når platingløsningen blir stående eller under gullbelegg, kan natriumsulfitt oksidere og redusere gull, noe som forårsaker ustabilitet i platingløsningen.

Tiolsuksinat, acetylcystein, cystein og andre tiolserieforbindelser og gullioner kan danne stabile ligander i cyanidfrie gullbeleggløsninger. Tiolsuksinat [HOOCCH(SH)-CH2COOH] og reduksjonspotensialet til gullionliganden, det vil si Au(HOOCCHSCH2COOH)2 + e ⇌Au(s) + 2 (HOOCCH – SCH2COOH), er den korrekte verdien av standardelektrodepotensialet for reaksjonen vanskelig å oppnå. Det målte reduksjonspotensialet til platingløsningen er omtrent -0,3~0,5 V. Tiolsuksinatgullliganden finnes i form av [Au(HOOC – CHSCH2COOH)2], med gull i oksidasjonstilstanden +1.

Reaksjonen av merkaptoravsyre tilsatt klorplatinsyre (HAuCl4 ):

HAuCl4 + 3 timer2O → Au(OH)3 + 4HCl (1-13)

Reaksjonen til Au(OH)3 med merkaptoravsyre:

Au(OH)3 + 4[HOOCCH(SH)CH2 COOH] → [Au(HOOCCH—S—CH2COOH)4 ] + 3 timer2O+H+                (1-14)

Nedbrytning av [Au(HOOCCH-S-CH2COOH)4] :

[Au( HOOCCH—S—CH2COOH)4] → [Au(HOOCCH—S—CH2COOH)2] + HOOCH2CHOOCCH—S—S—CHCOOHCH2COOH (1–15)

Den typiske sammensetningen og driftsforholdene for cyanidfri fortrengningsgullbeleggløsning er vist i tabell 1-44.
Tabell 1-44 Cyanidfri fortrengningsgullpletteringsløsning
Sammensetning og driftsforhold Sulfittsystem Merkaptoravsyresystem
Natriumgullklorat/(mol/L) 0.05
Natriumtiosulfat/(mol/L) 0.028 0.015
Gullmerkaptosuccinat/(mol/L) 0.01
Natriumsulfitt/(mol/L) 0.52 0.1
Merkaptoravsyre/(mol/L) 0.25 0.25
Trinatriumcitrat/(mol/L) 0.22
Acetylcystein/(mol/L) 0.03
Tetrametylammoniumklorid/(mol/L) 0.8
EDTA/(mol/L) 0.015
EDTA - 2Na/(mol/L) 0.02
Amino tris(metylenfosfonsyre)/(mol/L) 0.1
Natriumkarboksymetylcellulose/(g/L) 10
pH 7.0 7.0 1,5 (Justert med saltvann) 7.0
Temperatur /℃ 60 85 80 ~ 90
Basislaget i fortrengningsgullbelegget bruker et kjemisk nikkelbelegg. Avsetningsprosessen og sveiseytelsen til fortrengningsgullbelegget påvirkes forskjellig, og defekter som misfarging og porøsitet kan oppstå i gullbelegget.

3. Redusert kjemisk tykt gullbelegglag

I gullbeleggløsninger med tiosulfat som ligand forhindrer natriumsulfitt nedbrytningen av tiosulfationer. I NaAuCl4 I plateringsløsninger som inneholder treverdige gullsalter reduseres enverdig gull med overskudd av tiosulfat. I svakt alkaliske gullplateringsløsninger tilsettes vanligvis pH-buffere som ammoniumklorid, natriumtetraborat og borsyre.

Tiolforbindelser kan danne ligander med gullioner som har utmerket stabilitet og fungerer som reduksjonsmidler. Disse tiolforbindelsene inkluderer blant annet L-cystein og 2-etanamintiol. Tabell 1-45 viser sammensetningen og driftsbetingelsene for cyanidfrie kjemiske gullbelegningsløsninger av redusert type som bruker natriumtiosulfat og tiolforbindelser som ligander.

Tabell 1-45 Cyanidfri reduksjonstype gullbeleggløsning
Sammensetning og driftsforhold Tiosulfatsystem Tiol-systemet
Gullklorat/(g/L) 0.01
Natriumgullklorat/(g/L) 0.0125 0.0125
Natriumgullsulfitt/(g/L) 0.02
Gullmerkaptosuccinat/(g/L) 0.01
Merkaptoravsyre/(g/L) 0.27
Natriumtiosulfat/(g/L) 0.1 0.17 0.1
Natriumsulfitt/(g/L) 0.1 0.4
Ammoniumsulfitt/(g/L) 0.43
EDTA ・ 2Na/(g/L) 0.19
Trietanolamin/(g/L) 0.034
Ammoniumklorid/(g/L) 0.05
Natriumtetraborat/(g/L) 0.13
Kaliumdihydrogenfosfat/(g/L) 0.15
Tiourea/(g/L) 0.0033
Hydrokinon/(g/L) 0.002
Askorbinsyre/(g/L) 0.25
Hydrazin/(g/L) 0.3
L-cystein/(g/L) 0.08
2-aminoetylmerkaptan/(g/L) 0.2
Kaliumbenzotriazol/(g/L) 0.05
pH 7.5 7.0 8.0 7.0 7.5
Temperatur/℃ 60 80 70 80 80

4. Katalytisk kjemisk gullbelegg for basislag

Katalytisk kjemisk gullbelegg av basislaget er en kjemisk gullbeleggmetode av reduksjonstypen som bruker et reduksjonsmiddel. Reduksjonsmidlet har kun katalytisk aktivitet på overflaten av substratet, basismetalllaget (nikkel), og har ingen katalytisk aktivitet på den avsatte gulloverflaten. Det katalytiske kjemiske gullbelegget er glattere, tettere og har færre eller mindre porer enn gullbelegget av fortrengningstypen.

I kjemiske gullbeleggløsninger med tiosulfat og sulfitt kan gull avsettes på nikkeloverflaten uten å tilsette andre reduksjonsmidler. På nikkeloverflaten reduserer sulfitt bare tiosulfatgullkomplekset og virker ikke på gulloverflaten, så det kalles en katalytisk type kjemisk gullbelegg av basislaget. En fortrengningsgullbeleggreaksjon skjer også samtidig på overflaten av basisnikkelbelegglaget. Derfor gjennomgår reduksjonsmiddelet sulfitt forskjellige oksidasjonsreaksjoner påvirket av sammensetningen av basisnikkelbelegglaget og forbehandlingsbetingelsene. Konsentrasjonen av tiosulfatnatriumliganden eller pH-verdien i platingløsningen påvirker de forskjellige forholdstallene mellom fortrengnings- og reduksjonsreaksjoner, den maksimale tykkelsen på gullbelegglaget, utseende, porøsitet og adhesjon, så det er nødvendig å velge en passende platingløsningssammensetning og gullbeleggsbetingelser.

5. Stabilitet av cyanidfri kjemisk gullpletteringsløsning

Stabiliteten til cyanidfri kjemisk gullpletteringsløsning avhenger av ligandene og atomvalensen til gullioner i pletteringsløsningen, typene og konsentrasjonene av urenheter, og spesielt påvirkningen av ammoniumioner. Som vist i figur 1-43, er forholdet mellom gullpletteringstiden og tykkelsen på det pletterte laget etter impregnering av ren gullplate ved 80 ℃, 6 timer med ammoniakk 0~1,0 mol/L tilsatt den kjemiske erstatningsgullpletteringsløsningen av merkaptoravsyregullsalt 0,01 mol/L og merkaptoravsyre 0,27 mol/L vist i figur 1-43.
Figur 1-43 Effekt av ammoniakkkonsentrasjon på hastigheten til erstatningskjemisk gullbelegg
Figur 1-43 Effekt av ammoniakkkonsentrasjon på hastigheten til erstatningskjemisk gullbelegg

Å øke konsentrasjonen av ammoniakkvann akselererer avsetningshastigheten til gullbelegglaget. I beleggløsninger med høy ammoniakkkonsentrasjon fungerer merkaptosuksinat som et reduksjonsmiddel, og en reduksjonsreaksjon skjer samtidig med fortrengningsreaksjonen.

Forurensning av kobber- eller jernioner er hovedårsaken til ustabilitet i cyanidfrie kjemiske gullbeleggløsninger. Kobber som er oppløst fra porene i nikkelbelegglaget og jern fra substratet fremmer lett ustabiliteten til den kjemiske gullbeleggløsningen.

Årsaker: ① Gullioner tar imot elektroner som frigjøres når disse metallene oksiderer, noe som øker reduksjonshastigheten. ② Kobberioner eller jernioner katalyserer oksidasjonsreaksjonen til sulfitt eller tiol, noe som akselererer reaksjonshastigheten, noe som forårsaker defekter på overflaten av det kjemiske gullbelegget og reduserer sveiseytelsen og bindingsstyrken. I kjemiske gullbeleggløsninger bør oppløsningen og forurensningen av disse metallene undertrykkes ved å tilsette ligander som danner stabile komplekser med disse oppløste og forurensede metallionene.

6. Cyanidfri kjemisk gullpletteringsløsning

(1) Tetrakloraurat(III)-salter og svakt reduserende aminboran-gullbeleggløsninger 

Tetrakloraurat(III)-salter (NaAuCl4) reduseres lett for å avsette gull. Etersubstituerte tertiære aminboranreduksjonsmidler kan brukes med NaAuCl4 for å danne en autokatalytisk platingløsning, eller reduksjonsmidler som trimetylaminboran, metylmorfolinboran og diisopropylaminboran, sammen med stabilisatorer som tioler og jodidforbindelser.

   

(2) Gullbeleggløsning med gullsulfittsalt: 

For tiden brukes et stort antall monovalente gullsulfittbeleggløsninger, med hypofosfitter, formaldehyd, hydrazin, tetrahydroborat og DMAB som reduksjonsmidler. Gullsulfittsalt [Na3Au(SO3)2] er ustabil i vann og krever tilsetning av stabilisatorer som 1,2-diaminoetan og kaliumbromid.

   

(3) Tiosulfatgullbeleggløsning


① Forgyllingsløsning med tiourea og dets derivater som reduksjonsmidler: 

Kombinasjonen av monovalent gulltiosulfat og tiourea-pletteringsløsning har god stabilitet, produserer ikke hydrogengass rundt nøytral pH og har ingen porøsitet. Sammensetningen av pletteringsløsningen er vist i tabell 1-46 (pletteringsløsning A).

Tabell 1-46 Tiosulfatgullpletteringsløsning
Sammensetning og driftsforhold Platingløsning A Platingløsning B
NaAuCl4 / (mol/L) 0.1 0.0125
Na₂S₂O₃/(mol/L) 0.08 0.1
Na2SO3 /(mol/L) 0.4 0.1
Na₂B₄O₂/(mol/L) 0.1 -
NH4Cl/(mol/L) - 0.05
Tiourea/(mol/L) 0.1 -
Natrium-L-askorbat/(mol/L) - 0.25
pH 9.0 6.0
Temperatur/℃ 80 60
Pletteringshastighet/(μm/t) 1. 9 〜 2. 3 1,5 〜 2,0
Monovalent tiosulfation Au(SO3)2 3- dannes ved reaksjonen av NaAuCl4 salt med overskudd av natriumtiosulfatløsning. Natriumsulfitt kan forhindre nedbrytning av tiosulfationer, og tilsetning av tiourea eller tioureaderivater som metyltiourea og etyltiourea har også en betydelig effekt.


② Forgyllingsløsning med askorbinsyre som reduksjonsmiddel:

I tiosulfatpletteringsløsningen med L-askorbinsyrenatrium som reduksjonsmiddel er natriumsulfitt tilstede, som kan stabilt plettere gull. Sammensetningen av pletteringsløsningen er vist i tabell 1-46 (pletteringsløsning B).

Effektive reduksjonsmidler i natriumtiosulfat-pletteringsløsninger, i tillegg til tiourea og natriumaskorbat, inkluderer natriumtartrat, glykolsyre og hypofosforsyre.

   

③ Reaksjonsmekanisme for tiosulfatpletteringsløsning: 

Gullfat reagerer med tiosulfat for å produsere Au(S2O3)23-Når det ikke er tiosulfat i løsningen, er det bare sulfitt som er tilstede, og det dannes Au(SO₄3)23-Reaksjonsligningen er som følger:

Au3++ 2S2O3 2- + H2O ⇌ Au(S2O3)23- + SÅ4 2- + 2 timer+                    (1-16)

Au3+ + 3SO32- + H2O ⇌ Au(SO3 )23- + SÅ42- + 2 timer+                       (1-17)

De katodiske polarisasjonskurvene for gullavsetningsreaksjoner i sulfitt- og tiosulfatgullpletteringsløsninger er vist i figur 1-44. Figur 1-44 indikerer: a. De tre polarisasjonskurvene for treverdig gull er relativt nære. b. I kurvene representert av «●» og «○» er det bare natriumtiosulfatkonsentrasjonen som er forskjellig, mens andre komponenter er de samme. Resultatene viser at natriumtiosulfatkonsentrasjonen har liten effekt på avsetningen av treverdig gull. c. «△» er en løsning uten natriumtiosulfat, noe som indikerer at tilstedeværelsen eller fraværet av natriumtiosulfat har liten effekt på avsetningen av treverdig gull. d. «▽» er polarisasjonskurven for 1-valent gullutfelling. Sammenlignet med de tre foregående polarisasjonskurvene øker polarisasjonen, noe som indikerer at 3-valent gull er lettere å redusere enn 1-valent gull. e. Sammenligning av stabilitetskonstantene til monovalente gullkompleksioner dannet i sulfitt- og tiosulfatløsninger, som i ligningene (1-18) og (1-19):

Au+ + 2SO32- ⇌ Au(SO3)23-                     K=1010                    (1-18)

Au+ + 2S2O32- ⇌ Au(S2O3)23-                  K = 1026                 (1-19)

Figur 1-44 Sammenligning av katodiske polarisasjonskurver for gullavsetningsreaksjoner i sulfitt- og tiosulfatpletteringsløsninger (NH4C1 0,1 mol/L, Na2SO3 0,2 mol/L)

Figur 1-44 Sammenligning av katodiske polarisasjonskurver for gullavsetningsreaksjoner i sulfitt- og tiosulfatpletteringsløsninger

(NH4Cl 0,1 mol/L, Na2SO3 0,2 mol/L)

Tiosulfat har en sterkere kompleksdannelsesevne med monovalent gull enn sulfitt, så monovalent gull er vanskeligere å avsette fra platingløsninger som inneholder natriumtiosulfat enn de som inneholder sulfitt.

I sulfittgullbeleggløsningen med reduksjonsmiddelet askorbat er gullavsetningshastigheten bare 1/10 av den i natriumtiosulfatbeleggløsningen på grunn av forskjellen i katodiske polarisasjonskurver mellom gullsulfittkompleksioner og gulltiosulfatkompleksioner. Figur 1-45 viser askorbatsulfitt- og tiosulfatgulls katodiske og anodiske polarisasjonskurver.

Figur 1-45 Katodiske og anodiske polarisasjonskurver for askorbinsyre, sulfittpletteringsløsning og tiosulfatgull (gullelektrode, NH4CL 0,1 mol/L, pH 6,0, 60 ℃. Kurve "●" pletteringsløsning: Na2SO3 0,2 mol/L og NaAuCl4 0,01 mol/L; Kurve "▴" samme pletteringsløsning som før, med tilsetning av Na2S2O3 0,1 mol/L; Kurve "○" pletteringsløsning: Na2SO3 0,2 mol/L og natriumaskorbat 0,1 mol/L; Kurve "△" løsning, samme som før, med tilsetning av Na2S2O3 0,1 mol/L)

Figur 1-45 Katodiske og anodiske polarisasjonskurver for askorbinsyre, sulfittpletteringsløsning og tiosulfatgull

(Gullelektrode, NH4Cl 0,1 mol/L, pH 6,0, 60 ℃. Kurve "●" platingløsning: Na2SO3 0,2 mol/l og NaAuCl4 0,01 mol/L; Kurve "▴" samme platingløsning som før, med tilsetning av Na2S2O3 0,1 mol/L; Kurve "○" platingløsning: Na2SO3 0,2 mol/L og natriumaskorbat 0,1 mol/L; Kurve "△"-løsning, samme som før, med tilsetning av Na2S2O3 0,1 mol/L)

Reaksjonsprinsippet for tiosulfat-elektroløs gullbeleggingsløsning refererer til oksidasjonstilstanden til reduksjonsmiddelet, og de lokale reaksjonene er som følger.

Katodisk reaksjon:

Au(S2O3)23- + 2e → Au + 2S2O32-                               (1-20)

Anodisk reaksjon:

Tiourea-pletteringsløsning

CS(NH2)+ 5 timer2O → CO(NH2)2 + H2SO+ 8 timer+ 8e                       (1-21)

Reaksjonsproduktet CO(NH2)2 er urea.

Askorbinsyre-pletteringsløsning

C6H8O6 → C6H6O6 + 2 timer+ + 2e

Reaksjonsproduktet C6H8O6 er dehydroaskorbinsyre.

7. Gullbeleggløsning av sukkertilsetning med gullsulfittsalt

Etter å ha tilsatt sakkaridforbindelser til gullsulfittpletteringsløsningen, kan den forbli stabil i lang tid, og gullpletteringslaget er godt. Sammensetningen av pletteringsløsningen er som følger.

Gullsulfittsalter: kaliumgullsulfitt, natriumgullsulfitt, ammoniumgullsulfitt, etc.

Sulfitter: kaliumsulfitt, natriumsulfitt, ammoniumsulfitt, etc.

pH-justerer: Juster til pH 6~9 med forskjellige buffere.

Stabilisatorer: vannløselige aminforbindelser, etylendiamin, dietylentriamin, trietylentetramin, etc.; Vannløselige aminosyrer eller salter, etylendiamintetraeddiksyre, trietylentetraminheksaeddiksyre, trans-1,2-cykloheksandiamintetraeddiksyre eller salter, etc.; vannløselige organofosfater eller salter, amino-tris (metylenfosfonsyre), 1-hydroksyetyliden-1,1-difosfonsyre, etylendiamintetra (metylenfosfonsyre), dietanolamin, pentakis (metylenfosfonsyre) eller salter, etc.; vannløselige aromatiske nitroforbindelser kan også tilsettes, slik som mono-, di- og tri-nitrobenzolsyre, mono- og dinitrosalisylsyre, nitrobenzendikarboksylsyre, mono-, di- og tri-nitrofenol, dinitroaminofenol, mono-, di- og tri-nitrobenzen, etc.

Andre sukkerarter enn stivelse kan også omfatte heksoser, glukose, mannose, galaktose og andre monosakkarider, erytritol, pentitol, heksanol og andre sukkeralkoholer, glukarsyre og andre aldonsyrer, glukonsyre, heksatonsyre og andre aldonsyrer, oligosakkarider, etc. Disse sukkerforbindelsene kan øke stabiliteten til platingløsningen og utvide strømtetthetsområdet for det lyse platingområdet.

Platingresultatene er vist i tabell 1-47.

Tabell 1-47 Ulike sulfittgullbeleggbad, driftsforhold og effekter av tilsetningsstoffer
Serienummer Ulike sulfittgullbeleggbad og driftsforhold Additiv effekt
Nr. 1

Gullnatriumsulfitt 10 g/L

Natriumsulfitt 65 g/L

Trinatriumsitrat 65 g/L

Etylendiamintetrametylenfosfonsyre (EDTMP) 85 g/L

pH 7

Temperatur 60 ℃

Total strøm 0,2A

Prøvesubstrat: 42Fe-Ni-legering

Ideell strømtetthetsmetode med sterk omrøring

Elektrolyse ved 1080 ℃, nedbrytning av elektropletteringsløsningen produserer svarte partikler. Utseendet til pletteringslaget med forskjellige strømtettheter produserer flekker og svie.
Nr. 1 Tilsett natriumkarboksymetylcellulose (CMC) 10 g/L til platingløsningen. Andre betingelser er de samme som nr. 1. Elektroavsetning 1740 ℃, nedbrytning av platingløsning, svarte partikler. Utseendet på platingslaget forbedres, og flekker og svie er tydelig redusert.
Nr. 2

Gullnatriumsulfitt 10 g/L

Natriumsulfitt 130 g/L

Trinatriumsitrat 65 g/L

Triammoniumsitrat 65 g/L

p-Nitro(benzen)fenol 1 g/L

pH 7

Temperatur 40 ℃

Total strøm 0,2A

Prøvesubstrat: kobber

Sterk omrøring

Områder med høy strømtetthet er brent, platinglaget ser veldig dårlig ut, diffuse flekker vises
Nr. 2 platingløsning med stivelse 5 g/L, andre betingelser er de samme som nr. 2. Ingen brenning i områder med høy strømtetthet, godt utseende på platingslaget i bredt strømtetthetsområde, stabil platingløsning.
Nr. 3

Natriumgullsulfitt 10 g/L

Natriumsulfitt 100 g/L

Dinatriumborat 50 g/L

Borsyre 100 g/L

p-Nitro(benzen)fenol 1 g/L

pH 7

Temperatur 40 ℃

Total strøm 0,2A

Prøvesubstrat: kobber

Sterk omrøring

Dårlig utseende på platinglaget
Tilsett 5 g/L stivelse til nr. 3 platingløsning, andre betingelser er de samme som nr. 3. Godt utseende på platingslaget i et bredt spekter av strømtetthet, stabil platingløsning.
Nr. 4

Natriumgullsulfitt 12 g/L

Natriumsulfitt 100 g/L

Fosfitt 3 g/L

Etylendiaminhydrat 30 g/L

pH 7

Temperatur 60 °C

Total strøm 0,2A

Prøvesubstrat: 42Fe-Ni-legering

Sterk omrøring

Høy strømtetthetsområde brent, platinglagets utseende er ekstremt dårlig
Nr. 4 tilsett stivelse 5 g/L til platingløsningen, andre betingelser er de samme som nr. 4. Godt utseende på platingslaget og stabilitet av platingløsningen i et bredt spekter av strømtetthet.
Bilde av Heman
Heman

Smykkeekspert --- 12 års rikholdig erfaring

Hei, kjære,

Jeg er Heman, pappa og helt til to fantastiske barn. Jeg er glad for å dele mine erfaringer med smykker som ekspert på smykkeprodukter. Siden 2010 har jeg betjent 29 kunder fra hele verden, som Hiphopbling og Silverplanet, og hjulpet og støttet dem i kreativ smykkedesign, produktutvikling og produksjon av smykker.

Hvis du har spørsmål om smykkeprodukt, er du velkommen til å ringe eller sende meg en e-post og la oss diskutere en passende løsning for deg, og du vil få gratis smykkeprøver for å sjekke håndverket og smykkekvalitetsdetaljene.

La oss vokse sammen!

Legg igjen en kommentar

Din e-postadresse vil ikke bli publisert. Obligatoriske felt er merket med *

POSTS Kategorier

Trenger du støtte til smykkeproduksjon?

Send inn din forespørsel til Sobling
202407 heman - ekspert på smykkeprodukter
Heman

Ekspert på smykkeprodukter

Hei, kjære,

Jeg er Heman, pappa og helt til to fantastiske barn. Jeg er glad for å dele mine erfaringer med smykker som ekspert på smykkeprodukter. Siden 2010 har jeg betjent 29 kunder fra hele verden, som Hiphopbling og Silverplanet, og hjulpet og støttet dem i kreativ smykkedesign, produktutvikling og produksjon av smykker.

Hvis du har spørsmål om smykkeprodukt, er du velkommen til å ringe eller sende meg en e-post og la oss diskutere en passende løsning for deg, og du vil få gratis smykkeprøver for å sjekke håndverket og smykkekvalitetsdetaljene.

La oss vokse sammen!

Følg meg

Hvorfor velge Sobling?

Sobling Team Members sølv smykker produsent og fabrikk
SERTIFIKASJONER

Sobling respekterer kvalitetsstandarder

Sobling overholder kvalitetssertifikater som TUV CNAS CTC

Nyeste innlegg

Figur 1-5-4 Uvaskede perler og perlemorskjell

Hvordan optimalisere prosessering, identifisering og vedlikehold av perler

Perler er skatter i smykkeproduksjon. Denne artikkelen viser hvordan du får dem til å skinne med rengjøring, bleking, farging og mye mer. Lær deg å skille ekte fra uekte, og velg de beste til kundene dine eller til kjendisdesign. Enten du er en butikk, designer eller selger, hjelper denne guiden deg med å skinne i perlespillet.

Les mer "
Figur 4-15 Planting av et voksmodelltre fra topp til bunn

Hvordan lage voksmodeller av trær for støping av gull-, sølv- og platinasmykker

Lær hvordan du lager vokstreemønstre for smykkestøping med vår lettfattelige veiledning. Den dekker viktige trinn som utforming av gran, plassering av voksform og bruk av verktøy som vokssveiser. Perfekt for smykkeprodusenter, designere og forhandlere som ønsker å forbedre støpeteknikken og produsere gull-, sølv- og platinasmykker av høy kvalitet.

Les mer "
Figur 5-34 Voksinnfatning for prinsesseslipte edelstener

Hva er voksinnstøping og hvordan forvandler det smykkeproduksjon?

Dykk ned i støpeprosessen med voksinnfatning, en helt ny metode for smykkemakere. Den bygger inn edelstener i voksmodeller før støping, noe som sparer tid og penger. Perfekt for gullsmeder, designere og nettselgere som ønsker unike smykker av høy kvalitet. Ideell for spesialkreasjoner for kjendiser og spesialbestillinger.

Les mer "
diamond 4C grade

Hvordan vurdere diamantverdien nøyaktig?

Diamantverdien er basert på «4C»-standarder: Farge, klarhet, sliping, karatvekt. Store laboratorier som GIA og Kinas GB/T 16554 bruker dette. Det bestemmer pris, sjeldenhet og skjønnhet for smykkebedrifter og -selgere.

Les mer "

10% av!

På alle alle første ordre

Meld deg på nyhetsbrevet vårt

Abonner for å motta siste oppdatering og tilbud!

Sobling smykkeprodusent få et tilbud på smykkene dine
Den ultimate guiden for innkjøp - 10 tips for å spare millioner på innkjøp fra nye leverandører
Gratis nedlasting

Ultimate Guide of Business Sourcing

10 verdifulle tips kan spare deg for millioner av kroner når du kjøper smykker fra nye leverandører
Sobling smykkeprodusent gratis tilpasning for smykkedesignene dine

Smykker fabrikk, smykker tilpasning, Moissanite smykker fabrikk, Messing kobber smykker, Semi-Precious smykker, Syntetiske edelstener smykker, Ferskvann perle smykker, Sterling sølv CZ smykker, Semi-Precious edelstener tilpasning, Syntetiske edelstener smykker